Источники ионизирующего излучения Scienta Omicron

Оборудование для использования в вакуумных установках. Ионные и электронные пушки, УФ лампы, рентгеновские пушки.

Смотреть оборудование Получить консультацию

Категория:

Подкатегория:

Бренд:

Область применения:

Товары раздела

Источники ультрафиолетового излучения для UPS и ARPES

Scienta VUV5000 является узкополосным источником высокой интенсивности крайнего УФ диапазона для проведения эффективных измерений ARPES и УФ фотоэлектронной спектроскопии.

УФ источник HIS 14 HD

Предназначен для ультрафиолетовой фотоэлектронной спектроскопии твердых тел с использованием газоразрядных линий HeI и HeII.

УФ источник HIS 13

HIS 13 — высоковакуумный источник фотонов ультрафиолетового диапазона, обладает очень высокой интенсивностью благодаря интеграции высоковольтного анода в самоцентрирующийся газоразрядный капилляр.

Источники рентгена DAR 400 и DAR 450

DAR 400 — высокоинтенсивный рентгеновский источник с двойным анодом. Уникальная конструкция источника позволяет минимизировать перекрёстные помехи между двумя анодами.

Источники монохроматического рентгена XM 1000 и XM 1200

Монохроматический рентгеновский источник XM 1000 обеспечивает оптимальный поток фотонов и отличное разрешение по энергии.

Ионная пушка FDG 150

Данная ионная пушка от компании Scienta Omicron имеет точную фокусировку и четкое цифровое управление, что с легкостью обеспечивает регулируемый размер пучка с высочайшей плотностью тока, а также растровый режим для однородного травления образца.

Ионная пушка ISE 5

ISE 5 представляет собой компактный и универсальный источник ионного распыления, который обладает высокими токами мишени свыше 80 мкА в широком диапазоне энергий от 300 эВ до 5 кэВ.

Универсальная электронная пушка EKF 300

Источник EKF 300 с источником питания NGE 52 является универсальным источником электронов в диапазоне энергий от 0.1 кэВ до 5 кэВ.

Электронная пушка для нейтрализации заряда CN 10

Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия (РФЭС) идеально подходит для исследования изоляционных материалов, таких как полимеры, керамика, адгезивы и т.д.

Аргонная кластерная пушка с ионным пучком GCIB 10S

Кластерная пушка GCIB 10S предназначена для максимально производительного определения профиля распределения веществ по глубине в комбинации с РФЭС и другими системами анализа поверхности.

Источник электронов с малым пятном EKF 1000

Источник электронов EKF 1000 с малым пятном облучения представляет собой компактное и экономически эффективное решение для решения широкого круга задач.

Электронная пушка SEM 250 / SEM 500

SEM 250: Источник электронов для сканирующей Оже- и растровой электронной микроскопии с размером пятна облучения лучше, чем 250 нм при 12 кВ напряжении / 1 нА токе пучка электронов.

Источник электронов высокого разрешения SEM 20

Источник электронов для сканирующей Оже- и растровой электронной микроскопии с размером пятна облучения лучше, чем 20 нм при 25 кВ напряжении / 0.5 нА токе пучка электронов, на рабочем расстоянии 25 мм.