Описание оборудования
Особенности:
- Источник электронов с малым пятном облучения
- Высокий ток пучка электронов
- Оптимизированная стабильность в течение длительного времени
- Подходит для Оже-спектроскопии, растровой электронной микроскопии, сканирующей Оже-микроскопии
- Модульная конструкция
Источник электронов EKF 1000 с малым пятном облучения представляет собой компактное и экономически эффективное решение для решения широкого круга задач — Оже-спектроскопии, растровой электронной микроскопии, сканирующей Оже-микроскопии. Источник обладает током пучка высокой устойчивости, причем рабочий размер пятна <1 мкм при 5 кэВ. Прибор оснащен LaB6 нитью накала, которая обеспечивает высокий максимальный ток пучка.
Квадрупольные X/Y дефлекторы используются для статического и динамического отклонения пучка при получении изображения в сканирующей Оже- и растровой электронной микроскопии. Блок управления NGE 52 охватывает диапазон энергий от 100 эВ до 5 кэВ, имеет высокоустойчивое к выбросам и регулируемое питание нити накала, что позволяет проводить надежный количественный Оже-анализ. Отдельный блок управления сканированием обеспечивает сканирование на ТВ частоте, а также сканирование с контролем от ПК.
Сервис и ремонт измерительного оборудования
ФОРМА ДЛЯ
ОБРАТНОЙ СВЯЗИ
Нажимая на кнопку "Отправить", я даю согласие на обработку персональных данных.
Напишите свой вопрос, укажите интересующее оборудование.